제목   2017년 제6기 MEMS 공정 교육
글쓴이   관리자    등록일   2017.06.13
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첨부파일   2017년 제6기 MEMS 공정 교육 계획안(건국대).pdf (96)
[지원서] 2017 제 6기 서울테크노파크 MEMS 공정교육.hwp (21)
개인정보 수집.이용 동의서_건국대학교.hwp (47)
개인정보 수집·이용·제3자 제공 동의서_서울과기대 혁신센터.hwp (13)
내용  

2017년 제6MEMS 공정 교육

 

교육목표

- IoT 융합 신기술 인재 양성을 위하여 IoT 핵심요소 중 하나인 MEMS 공정 기술인력 양성 필요

- 이론(2일) + 실습(3일) 과정으로 교육 과정을 수립하고, 실습 위주의 교육을 실행함으로써 FAB 환경에서의 업무 경험 증대

  • - MEMS 공정(반도체)및 재료의 이해와 장비 교육을 통하여 실무 지식 및 활용능력 향상
  • - 산학 공용 장비에 대한 홍보 및 교육을 통한 장비 활용도 제고

과 정 명

  MEMS 공정 실습 (Inductor 제작 및 평가)

교육정원       

  건국대학교 공학계열 학생 2,3학년 학생 중 3명 (총 18명)      

교육장소

  이론강의 : (재)서울테크노파크 304호

  공정실습 : (재)서울테크노파크 FAB, 309호, 310호

수강대상

  서울과학기술대학교 거점센터 참여대학 공학계열 재학생

교육기간

  2017 . 07 . 03 ~ 2017 . 07 . 07 (5일)

교육내용

 ○ 반도체 FAB 출입 및 환경 안전교육

 ○ MEMS 공정 개론

 ○ MEMS 공정 단계별 이론교육

 ○ 공정실습 사전 장비교육

 ○ Inductor 제작공정 실습

 ○ Inductor 측정 실습

 


모집 기간 : ~ 2017. 06. 19.

모집 방법 : 첨부된 지원서(형식: 한글 파일), 개인정보수집이용동의서(건국 대학교, 서울과학기술대학교) (형식: 출력 후 서명한 후 스캔) 2부 접수


접 수 : 이메일접수 eeitf@naver.com

교육 일정

일 자

시 간

3일(이론)

4일(이론)

5일(실습)

6일(실습)

7일(실습)

09:00~10:00     

서울TP 이동  

서울TP 이동

공정실습

(이론교육)     

측정실습        

서울TP 이동

10:00~11:00

이론3

AFM 측정실습

Bottom

Electrode

Litho.

Inductor

Litho.

11:00~12:00

교육소개

점심

점심

12:00~13:00

점심

이론1

SEM 측정

13:00~14:00

이론4

점심

점심

14:00~15:00

휴식

Hole Etch

Inductor

Electro

plating

Nano-3D 실습

15:00~16:00

이론2

휴식

수료증

수여

청정실 안전교육

16:00~17:00

교육 시험

 

*실습의 경우 그룹편성에 따라 교육 프로그램 스케쥴이 변경

이론교육 강의

          시간

                 강의명

 3

 12:30 ~ 14:30      

 MEMS 공정개론 및 시장동향         

 3

 15:00 ~ 17:00

 Photo Lithography

 4

 10:00 ~ 12:00

 Deposition

 4

 13:00 ~ 15:00

 Etching Process

 





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